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光學光刻平台配套

   D 光學光刻平台配套-圖片01.png


  提供高精度光學光刻旋轉平台:即氣浮轉台,一般采用公司标準系列氣浮轉台,詳見本網站氣浮轉台頁面,或以此為基礎改制。光學行業已經應用的場合有:偏測儀、定心車、大鏡面研抛加工(機器人配合)、大鏡面掃描測量;芯片半導體行業應用有:芯片測量、矽片抛光、矽片減薄、光刻、LDI光刻、手機生産鍊檢測。

  提供高精度光學光刻氣浮位移平台:一般采用定制形式,光學行業已經應用的場合有:偏測儀Z軸台、定心車、CCD拼接儀、大鏡面研抛加工、大鏡面測量;芯片半導體行業應用有:芯片制程中的測量和檢測、LED制程中的檢測、光刻、LDI光刻、手機生産鍊檢測。

  氣浮位移平台産品現狀:目前有幾種基本形式。一種是采用氣足組合的,類似三坐标測量機位移平台結構。優點是成本低、搭建相對容易;缺點是剛度低隻适合低速低頻、結構複雜零件多、調整部件太多不穩定、精度相對較低。另一種是以美國areotech為代表的半導體行業專用氣浮位移平台,優點是采用一體化的設計,精度高、可高速高頻;缺點是對環境要求太高,尤其是對溫度環境要求太高;其實對環境的過分要求,也會影響實際可以達到的精度,這類平台的精度指标都指的是在幾乎理想環境下的指标。

  天津中精微/北京航星聯合的氣浮位移平台,克服了目前各種結構形式的缺點,是目前國内國外高精度氣浮位移平台首選:

 1,在設計上消除了熱膨脹系數的影響,溫度适用性非常強

 2,産品采用整體設計,精度高沒有調整環節。

 3,充分發掘潛力,最大程度提高氣膜面積,承載往往超出數倍,剛度極好。适合高速高頻運動。


  提供高精度光學光刻氣浮位移平台快速定制服務


  以下高精度光學光刻氣浮位移平台可以直接采用

 

1. 12英寸芯片生産檢測氣浮位移台(兩軸):

1) 行程 X=350mm,Y=350mm

2) 安裝尺寸 350mm*350mm

D 光學光刻平台配套-圖片02.png

3) 最大外形 寬790mm*深790mm*高290mm(含底台)電纜内藏

4) 最大速度 500mm/s

5) 重複定位精度 0.2μm(光栅反饋時)

6) 位移精度 1μm     (光栅反饋時)

7) 運動直線度和平面度 1μm

8) 最大承載:100kg

 

2. 高精度LDI光刻專用氣浮位移台(兩軸):

1) 行程 X=350mm,Y=1150mm

2) 吸盤尺寸 寬580mm*深680mm

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3) 外形:寬1300mm,深1600mm,高(到橫梁)1050mm,高(到吸盤)590mm  

4) 最大速度:600mm/s

5) 重複定位精度 0.5μm(光栅反饋時)

6) 位移精度 3μm (光栅反饋時)

7) 運動直線度和平面度 5μm

8) 最大承載 300kg

 

3. 高精度偏側儀專用Z軸氣浮位移台(單軸):

(同時提供偏側儀用氣浮轉台、調整台、操作台和平台)

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1) 行程 Z=800mm

2) 輪廓最大外形:寬500*深350mm,高1600(僅Z軸台)立柱截面:寬350*246mm(含外殼)

3) 最大速度 150mm/s

4) 重複定位精度 2μm  (伺服電機驅動、碼盤反饋)

5) 位移精度 5μm      (伺服電機驅動、碼盤反饋)

6) 直線度 2 μm

7) 最大承載 80kg

 

4. 超高精度三坐标測量機專用位移台(三軸):

(同時适用于超高精度影像儀和激光掃描儀)D 光學光刻平台配套-圖片05.png

1) 行程X=320mm,Y=350mm,Z=350

2) 安裝尺寸 560mm*450mm

3) 外形:寬1000mm *深850mm*高2100mm

4) 最大速度 150mm/s

5) 重複定位精度 0.2μm  (伺服電機碼盤反饋)

6) 位移精度 0.6μm      (伺服電機碼盤反饋)

7) 運動直線度和平面度 0.6 μm

8) 最大承載 150kg




鄭重聲明我公司天津中精微儀器設備有限公司生産的氣浮轉台等産品,為我公司獨創,擁有完全知識産權,已獲國家發明專利對市場上仿制我公司産品的單位我們将采取措施打擊侵權單位和個人。同時提醒用戶慎重選擇供貨單位,以免引起不必要的麻煩和損失。發現與我們外觀或結構雷同或非常接近的産品,盡量不要購買,或向我公司求證。


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